Modeling of electron beam scattering in high resolution lithography for the fabrication of X-Ray masks. - M. Gentili; A. Lucchesini; L. Scopa; Paolo Lugli; A. Paoletti; G. Messina; S. Santangelo; A. Tucciarone (Eur. Trans. Telecommun., 1990)

Evaluation of Electron Scattering in High-Resolution X-Ray Mask Fabrication. - G. Messina; A. Paoletti; S. Santangelo; A. Tucciarone (EUROSIM, 1992)